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等離子清洗機(jī)常用的氣體包括氧氣、氫氣、氮?dú)夂蜌鍤狻?/span>

氧氣：等離子清洗機(jī)使用氧氣時(shí)，通過(guò)電離產(chǎn)生離子體，可對(duì)材料表面進(jìn)行物理轟擊，形成粗糙的表面，同時(shí)高活性的氧離子可與斷鍵后的分子鏈發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成活性基團(tuán)的親水表面，達(dá)到表面活化的目的。

氫氣：氫氣具有還原性，可以用于去除金屬表面的微氧化層，同時(shí)不會(huì)損壞表面敏感的有機(jī)層。

氮?dú)猓旱獨(dú)怆婋x形成的等離子體可以與一些分子結(jié)構(gòu)發(fā)生關(guān)鍵反應(yīng)，因此它也是一種活性氣體，但與氧氣和氫氣相比，它的粒子相對(duì)較重。

氬氣：氬氣屬于惰性氣體，等離子清洗使用氬氣時(shí)，能夠?qū)Σ牧媳砻姘l(fā)生物理反應(yīng)，清潔和粗化表面，且不會(huì)對(duì)基材產(chǎn)生氧化反應(yīng)，適用于精密金屬元件處理。

具體使用哪種氣體要根據(jù)清洗的用途和實(shí)際情況來(lái)決定。